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半导体制程设备(四版)

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著者
出版者 出版社:五南 订阅出版社新书快讯 新功能介绍
翻译者
出版日期 出版日期:2009/09/01
语言 语言:繁体中文



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发表于2024-11-15

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图书描述

  半导体元件由硅土制成硅晶圆, 再经数百个制程步骤,才制作出256M级的DRAM。这期间所使用的机器,主要的也不过十数种。晶圆成长炉、磊晶反应器、步进照像仪、化学气相沉积炉、氧化和扩散高温炉、离子植入机、干蚀刻机、电子束蒸镀机、溅镀机、化学机械研磨机等。以及封装制程设备、真空帮浦及系统洗净机器等主要支援设备。本书对这些机器的构造和操作原理都有详尽的叙述。

  砷化镓Ⅲ–Ⅴ化合物半导体制程,如金属有机化学气相沉积炉、分子束磊晶和铜制程使用设备、低介电常数介电制作设备以及一些2000千禧年推出的新机器,也都在本书有详尽的叙述,次世代先进的制程设备也有一些介绍。本书是编着者累积多年经验、费时一年而完成的。期望能给想从事半导体业的同学们一项内容丰富有力的教科书。给业界的工程师、研究生、教授老们一项便捷的参考。

【作者简介】

张劲燕

现职:逢甲大学电子系副教授
学历:交通大学电子工程研究所博士
经历:新加坡Intersil电子公司工程师
   ITT环宇电子公司工程部经理
   台湾电子电脑公司半导体厂厂长
   万邦电子公司总工程师
   明新工专电子科副教授(或兼科主任)
   逢甲大学电机系副教授(或兼系主任)
专长:半导体元件、物理
   VLSI制程设备及厂务
   奈米科技
   积体电路构装

著者信息

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图书目录

第1章 晶体成长和晶圆制作
第2章 磊晶沉积设备
第3章 微影照相设备
第4章 化学气相沉积炉
第5章 氧化扩散高温炉
第6章 离子植入机
第7章 干蚀刻机
第8章 蒸镀机
第9章 溅镀机
第10章 化学机械研磨
第11章 真空泵和真空系统
第12章 湿洗净和干洗净制程设备
第13章 封装制程设备

图书序言

图书试读

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