PLL电路设计及应用 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2025

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• 低功耗设计
• 信号完整性
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　　本书主要介绍锁相回路(PLL)电路的设计与应用，内容包括PLL工作原理与电路构成、PLL电路的传输特性、PLL电路中回路泸波器的设计方法、PLL电路的测试与评估方法、PLL特性改善技术、实用的PLL频率合成器的设计与制作、可程式除频器的种类与工作原理以及电压控制振盪器等。本书可供电子、通信等领域技术人员以及大学相关业的本科生、研究生参考，也可供广大的电子爱好者学习参考。

本书特色

　　1.本书内容丰富、实用性强，便于读者阅读理解。

　　2.深入浅出地介绍PLL锁相回路电路的设计与应用。

好的，这是一份关于一本假设的图书的详细简介，该书的主题与“PLL电路设计及应用”无关，旨在提供一个详尽、富有技术细节且风格自然流畅的描述。 --- 《先进光刻技术与纳米制造工艺》 图书简介 《先进光刻技术与纳米制造工艺》 是一部全面深入探讨当前半导体制造领域核心技术——光刻（Lithography）及其相关纳米制造工艺的专著。本书旨在为微电子、光电子、材料科学及相关工程领域的研究人员、高级工程师和研究生提供一个系统化、前沿且极具操作指导价值的知识框架。 本书摒弃了对基础电子学理论的重复阐述，而是将焦点完全集中于光刻技术这一信息产业的“卡脖子”环节，从物理基础到工程实践，再到未来发展趋势，进行了多维度的剖析。全书的结构设计紧密围绕着如何实现更高分辨率、更高套刻精度和更低缺陷率的制造目标展开。 --- 第一部分：光刻物理基础与光学原理的深化 本部分内容着重于构建理解现代光刻机工作原理所需的深厚物理和光学基础。我们深入探讨了衍射理论在光刻成像中的核心作用，并详细分析了傅里叶光学在解析光刻分辨率极限（如瑞利判据的现代应用）中的关键地位。 1.1 极紫外光（EUV）物理： 重点剖析了EUV光刻的独特性质。这包括对反射式光学系统的设计挑战（如多层反射镜的材料选择、缺陷控制和吸收损耗分析），以及真空环境对光刻过程的严格要求。我们详细论述了EUV光源（如激光等离子体LPP源）的等离子体形成机理、辐射效率以及如何实现稳定的波长控制和能量输出。 1.2 掩模版技术（Reticle Technology）： 本章全面覆盖了现代高数值孔径（NA）光刻中使用的无图案化掩模版（Blank） 的制造工艺。详细介绍了超高反射率多层膜的沉积技术（如原子层沉积ALD或磁控溅射），以及如何通过电子束刻写（E-beam Writing） 实现纳米级的图形精度。特别强调了掩模版缺陷检测与修复技术，这是EUV良率控制的关键瓶颈。 --- 第二部分：光刻胶化学与界面科学 光刻胶（Photoresist）是实现图形转移的化学载体。本部分深入剖析了先进光刻胶的分子设计、反应动力学以及与基底的界面相互作用。 2.1 化学放大抗蚀剂（CAR）机理： 详细阐述了光致产酸剂（PAG） 的化学反应路径、酸的扩散机制以及在后曝光烘烤（PEB） 过程中催化脱保护反应的动力学模型。我们提供了不同聚合物骨架（如聚羟苯乙烯衍生物）在深紫外（DUV）和EUV波段下的曝光剂量响应曲线和敏感度分析。 2.2 界面控制与粘附： 探讨了底层抗反射层（BARC） 的设计原理及其在抑制驻波效应（Standing Wave Effect）和晕影效应（Flare） 中的作用。深入分析了光刻胶与硅/氧化物基底之间的表面等离子体极化及氢键作用，并介绍了用于改善粘附性的底涂剂（Adhesion Promoter） 的化学配方与应用流程。 --- 第三部分：先进光刻工艺与缺陷控制 本部分关注的是如何将理论转化为可量产的制造步骤，特别是在高深宽比（High Aspect Ratio）结构制造中的挑战。 3.1 浸没式光刻（Immersion Lithography）： 详细剖析了水作为浸没介质带来的光学优势（如数值孔径的提升）与工程挑战（如水滴控制、表面张力影响）。内容涵盖了液滴发生器的设计、水循环与过滤系统的维护标准，以及如何校正由水-空气界面引起的光学畸变。 3.2 关键工艺优化： 本章聚焦于工艺窗口（Process Window）的优化。内容包括：曝光-显影（Exposure-Develop）耦合模型、套刻精度（Overlay Accuracy） 的误差来源分析（如光刻机运动误差、光刻胶形变），以及如何利用OPC（Optical Proximity Correction，光学邻近效应校正） 算法来补偿衍射效应导致的图形失真。 3.3 纳米缺陷工程： 深入讨论了颗粒物（Particles）、残留物（Residues）和刀口效应（Line Edge Roughness, LER） 的产生机理。重点介绍了关键尺寸（CD）均匀性的控制，以及如何利用等离子体清洗和局部化学机械抛光（CMP） 技术对缺陷进行识别和移除，以确保高集成度芯片的生产良率。 --- 第四部分：替代及下一代光刻技术展望 本部分为读者描绘了超越现有DUV和EUV技术的未来制造蓝图。 4.1 电子束直接成像（E-beam Direct Write）： 探讨了高通量电子束光刻的像素化限制和载流子效应（Proximity Effect） 的校正方法，以及如何利用模板辅助技术来提升其写入速度。 4.2 纳米压印技术（Nanoimprint Lithography, NIL）： 详细分析了模板转移的物理机制、模具的精确制造、以及抗模具污染的关键技术。特别关注了超高粘度抗蚀剂的铺展和填充动力学，这是实现高保真图案转移的核心。 4.3 聚焦离子束（FIB）与高能粒子束： 阐述了FIB在材料刻蚀、沉积和精确失效分析中的应用，并讨论了高能离子束在材料改性和新型光刻胶活化方面的潜力。 --- 总结 《先进光刻技术与纳米制造工艺》以其对物理化学细节的深度挖掘和对工程实践的关注，为读者提供了一套完整的、跨越理论与应用的现代半导体制造知识体系。本书的叙述风格严谨、逻辑清晰，每一个章节都配备了大量的工程图表、模拟结果和实测数据，确保了知识的准确性和前瞻性，是致力于推动微纳制造技术边界的专业人士不可或缺的参考宝典。

第1章 PLL工作原理与电路构成(PLL与频率合成技术简介)
1.1 PLL电路的基本工作原理
1.2 PLL电路以及频率合成器的构成
1.3 PLL频率合成器的信路精准度
1.4 PLL的其他应用

附录A PLL电路中负回授的应用
A.1 PLL电路与运算放大器电路的异同
A.2 放大电路之负回授种类与其特性分析

第2章 PLL电的传输特性(PLL电路的特性由回路泸波器决定)
2.1 PLL电路传输特性的理解
2.2 回路泸波器设计的基础知识

第3章 PLL电路中回路泸波器设计方法(被动/主动回路泸波器的设 计与实例与验证)
3.1被动回路泸波器的设计
3.2 10 ~ 100kHz PLLZSTB 率合成器中回路泸波器
3.3 主动回路泸波器3.3主动回路泸波器
3.4 25 ~ 50MHz PLL频率合成器中回路泸波
3.5 相位边限不同时PLL电路的特性

第4章 446与各种检相器(PLL电路中使用重要元件的基础知识)
4.1 PLL的重要元件4.46
4.2 检相器的工作要点

第5章 电压控制振盪器VCO的电路(VCO要求的特性及各种振盪电路方式)
5.1 VCO要求的性能
5.2 由弛张盪器构成的VCO
5.3 回授盪器
5.4 高频用LC振盪电路及其在VCO中的应用
5.5 其他的VCO电路

第6章 可程式除频器的种类与工作原理(构成PLL频率合成器的数位电路)
6.1 可程式除频器的基本元件(下数计数器)
6.2 前置频率倍减器
6.3 PLL用LSI

第7章 PLL电路的测试与评价方法(被动/主动回路泸波器的回路增益)
7.1 负回授电路中回路增益的测试
7.2 使用频谱分析仪的测试方法
7.3 PLL电路中回路增益的测试

第8章 PLL 特性改善技术(信号精准度与锁相速度的提高技术)
8.1 优质的电源
8.2 VCO控制电压特性的改善
8.3 VCO与检相器之间的干扰
8.4 检相器的死区
8.5 锁相度的改善

第9章 实的PLL频率合成器的设计与制作(选路泸波器的详细设计与实测特性)
9.1 使用74HC4046的时脉频率合成器
9.2 使用 TLC2933构成的脉冲频率合成器
9.3 HF 频率合成器
9.4 40MHz 频率基准信号用PLL
9.5 低失真的低频PLL电路

附录 B 回路泸波器设计用规格化曲线图
参考文献

评分☆☆☆☆☆

我是在一个工程师论坛上看到有人推荐这本书的，据说作者在PLL领域有很深的造诣，而且这本书的内容写得非常实在，没有太多花哨的理论，而是直接切入解决实际问题的核心。我作为一个资深的电子工程师，最看重的是书本的实用性和指导性。我希望这本书能从原理入手，深入浅出地讲解PLL的工作机制，然后再详细介绍各种PLL的设计方法和技巧。尤其是我对一些高级的主题很感兴趣，比如宽带PLL的设计、低功耗PLL的设计，以及如何在PCB布局布线时考虑到PLL电路的敏感性，减少寄生参数对性能的影响。如果书中还能包含一些推荐使用的EDA工具和仿真技巧，帮助我更有效地进行设计和验证，那就更好了。毕竟，理论知识再扎实，也需要转化为实际可行的设计方案。

评分☆☆☆☆☆

这本书的标题《PLL电路设计及应用》真的正中我下怀！我目前正在进行一个无线通信模块的开发项目，其中PLL（锁相环）是核心部分，但我在调试过程中遇到了一些瓶颈，一直找不到突破口。我之前也陆陆续续看了一些相关的资料，但总觉得不够系统，不够深入，很多细节上的问题还是解释得不够清楚。我希望这本书能提供更全面的PLL电路设计理论，包括不同拓扑结构的选择、关键参数的计算与优化、以及在实际应用中可能会遇到的各种干扰和噪声的处理方法。特别是针对我目前项目遇到的相位噪声和杂散信号问题，我非常期待书中能有详细的分析和实用的解决方案。如果能结合一些实际的案例分析，比如针对特定应用场景（如射频收发器、频率合成器等）的PLL设计思路和仿真验证过程，那就更完美了。

评分☆☆☆☆☆

说实话，我本来以为PLL这种东西离我的生活很遥远，没想到读了这本书之后，才发现原来PLL电路在我们的生活中无处不在！从手机通信到GPS定位，再到我们家里的各种电子设备，很多地方都离不开它的身影。这本书用一种非常生动有趣的方式，把原本复杂的PLL原理讲得通俗易懂，甚至还举了一些和日常生活相关的例子，让我这个非专业人士也能够大概理解它的工作原理。虽然我可能不会亲自去设计PLL电路，但了解这些背后的技术，让我对身边的科技有了更深的认识，感觉非常有启发性。对于那些想了解电子技术，但又怕枯燥的读者来说，这本书绝对是个不错的入门选择。

评分☆☆☆☆☆

哇，这本书的装帧设计真的好漂亮！封面配色大胆又有点复古，我第一眼就被吸引住了，那种深邃的蓝和跳跃的橙色，感觉就像是把复杂的电路图浓缩成了一个艺术品，摆在书架上绝对是一道亮丽的风景线。打开书页，纸张的质感也很好，摸起来厚实又顺滑，闻起来还有一股淡淡的书香，让我在阅读的时候心情格外愉悦。我平常就很喜欢收藏一些设计感强的书籍，这本书绝对能满足我的“颜控”属性。而且，作者在排版上也花了不少心思，图文比例协调，重点内容用不同的字体或颜色标出，看起来一点都不枯燥，即使里面讲的是比较硬核的电子技术，也能让人愿意花时间去细细品味。我之前也买过一些电子类的书籍，但很多排版都比较死板，看了就让人头昏，这本书在这方面真的做到了极致，值得称赞。

评分☆☆☆☆☆

我是一位电子工程系的学生，目前正在学习模拟电路和通信系统。PLL是我在这门课程中遇到的一个比较难理解的概念，很多教科书上的讲解都比较晦涩。我希望这本书能够提供更清晰、更直观的解释，帮助我彻底理解PLL的原理和应用。我特别希望能看到书中包含大量的图示和公式推导，并且能有详细的步骤说明，一步一步地引导我完成PLL电路的设计过程。如果书中还能提供一些实验指导或者参考电路，让我能够在实际操作中加深理解，那就太棒了。毕竟，理论学习结合实践操作，才能真正掌握一门技术。我期待这本书能成为我学习PLL的得力助手。