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半导体奈米技术(精)

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著者
出版者 出版社:五南 订阅出版社新书快讯 新功能介绍
翻译者
出版日期 出版日期:2010/07/08
语言 语言:繁体中文



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发表于2024-11-15

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图书描述

  半导体制程已进入奈米线幅,而广义微影技术为半导体制程之核心,惜国内尚无中文微影技术专书,因此决定教研之余撰写本书,以弥补此缺憾与空白,并为推动科技中文化,略尽个人棉薄。

  本书重点在微影技术原理与概念之说明,而不在生产线上实务细节之描述。内容包括微影技术全部重要内涵,例如微影制程、微影光学、主要微影方法、其他微影方法、图罩与图规、阻剂、解像度增进技术、铜互连线、化学机械研磨、电浆蚀刻与光学微影模拟。基于多年在交通大学应用化学研究所之教学经验,本书亦包含了解微影技术必要之硅制程背景知识与基础光学。

  末来数年,半导体量产线幅当推进至45-32-22奈米技术节点,光学微影制程之难度日益增加,对制程工程师之挑战亦日益升高。本书对相关领域读者应有所助益与参阅价值。

作者简介

龙文安

现职
  国立交通大学应用化学系暨研究所教授

学历
  美国杜兰大学化学博士

著者信息

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图书目录

第一章 背景知识
第二章 微影绪论
第三章 微影制程概述
第四章 基础光学
第五章 微影光学
第六章 主要微影方法
第七章 其他微影方法
第八章 图罩与图规
第九章 阻剂化学
第十章 解像度增进技术
第十一章 铜互连线
第十二章 化学机械研磨
第十三章 电浆蚀刻
第十四章 微影模拟

图书序言

图书试读

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